9月26日下午，光电所研究员杨勇应邀在成都七中八一学校作题为“芯战—光刻机”的学术讲座。学校高2018级200多名师生聆听了讲座。
杨勇研究员从事光刻机研究工作多年，凭借多年丰富的工作经验，他从广义的基础知识到专业的理论技术再到高层次的国家重大发展需求，多角度、全方位的阐述了芯片的重要性，生动的引出了光刻机的三大核心：分辨力、套刻精度、产率。杨勇研究员以光刻机三大核心为主体，依次进行阐述。通过光刻机的发展历史，国内外光刻机的现状，国内外核心技术的对比，光电所的研究历程、现阶段取得的成果等方面，让七中八一的师生们对光刻机有了一个全面而深入的认识。讲座过程中杨勇研究员制作了很多精美的图片和模拟视频，既让老师同学们更容易更直观的理解和学习，又活跃了讲座的气氛。整个演讲过程中，同学们秩序井然，认认真真做笔记，表现出了对光刻机浓厚的兴趣。
尽管讲座已经结束，但同学们依然保持着高昂的热情，向杨勇老师提问。杨勇老师以专业的技术角度给同学们耐心细致的回答。
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