3月15至17日，中科院光电技术研究所微电子专用设备总体研究室参加了SEMICON China 2016（由国际半导体设备和材料协会SEMI及中国电子商会CECC共同主办的业界盛会）大会中“IC设计、制造及应用专区”展览会，该展览会在上海新国际博览中心举行。
微电子专用装备是光电所的重点学科之一。团队三十多年从事微电子专用设备的攻关与研制，先后获国家重大技术装备成果一等奖1项，国家科技进步奖三等奖2项；中国科学院重大科技成果一等奖1项；中国科学院科技进步奖一等奖4项、二等奖1项、三等奖1项；中科院自然科学奖三等奖1项；四川省科技进步二等奖1项等；各种国家及省部级奖励共计18项。近年来，在国家“极大规模集成电路制造技术”重大专项的支持下，就高端光刻装备关键技术及整机集成开展了大量研究。目前，光电所自主研发的光刻机产品主要有六类：URE-2000系列单面光刻机、URE-2000S系列双面光刻机、URE-2000D系列大面积光刻机、DS-2000系列数字无掩模光刻机、URE-2000/35系列紫外压印光刻机以及TYG-2000系列投影光刻机。迄今为止，由光电所研发的光刻机产品已经销售有400余台，部分产品已远销美国、新加坡、越南、朝鲜等国家，在国内外微细加工领域受到用户的一致好评。通过多年光刻设备的研发，光电所微电子专用设备总体研究室建立了较为完
善的技术研发平台及研发团队，积累了丰富的整机集成经验。在国家重大专项“沿途下蛋”理念的指导下，不断进取，取得了丰富的成果。近期开发成功的URE-2000/35系列紫外压印光刻机就是在国家重大专项支持下取得的成果。在光电所的展位上，不少国际友人以及国内专业人士前来咨询、洽谈业务，还有诸多投资公司前来商讨合作事项。通过SEMICON China2016展览会，我们既能及时跟进半导体行业的需求，同时也向国内外宣传了光电所研发的光刻机产品。更为可贵的是，会展期间已经有不少潜在客户签订了购买意向书。
SEMICON China自1988年首次在上海举办以来，已成为中国首要的半导体行业盛事之一，囊括当今世界上半导体制造领域主要的设备及材料厂商。SEMICON China见证了中国半导体制造业茁壮成长以及加速发展的历史，为中国半导体制造业未来的强盛壮大作出了贡献。
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