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论文编号: 2015-2006
作者: Gao, Ping; Yao, Na; Wang, Changtao; Zhao, Zeyu; Luo, Yunfei; Wang, Yanqin; Gao, Guohan; Liu, Kaipeng; Zhao, Chengwei; Luo, Xiangang
刊物名称: APPLIED PHYSICS LETTERS
所属学科:
论文题目英文: Enhancing aspect profile of half-pitch 32 nm and 22 nm lithography with plasmonic cavity lens
年: 2015
卷: 106
期: 9
页: 93110
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