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论文库 |
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| 论文编号: |
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| 作者: |
Yang XF, Zeng BB, Wang CT, et al. |
| 刊物名称: |
OPTICS EXPRESS？ |
| 所属学科: |
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| 论文题目英文: |
Breaking the feature sizes down to sub-22 nm by plasmonic interference lithography using dielectric-metal multilayer |
| 年: |
2009 |
| 卷: |
17 |
| 期: |
24 |
| 页: |
21560-21565 |
| 联系作者: |
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| 收录类别: |
SCI Ei |
| 影响因子: |
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| 参与作者: |
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| 备注: |
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